Plasmapuhdistus
Kupiainen, Oiva (2025-04-14)
Plasmapuhdistus
Kupiainen, Oiva
(14.04.2025)
Julkaisu on tekijänoikeussäännösten alainen. Teosta voi lukea ja tulostaa henkilökohtaista käyttöä varten. Käyttö kaupallisiin tarkoituksiin on kielletty.
avoin
Julkaisun pysyvä osoite on:
https://urn.fi/URN:NBN:fi-fe2025041728693
https://urn.fi/URN:NBN:fi-fe2025041728693
Tiivistelmä
Plasmapuhdistus on erilaisten pintojen puhdistukseen käytettävä menetelmä, joka perustuu plasman hiukkasten vuorovaikutukseen puhdistettavan pinnan kanssa. Tämän tutkielman tarkoituksena on antaa yleiskuva plasmapuhdistuksesta pintapuhdistusmenetelmänä ja kertoa joistakin sen sovelluksista eri aloilla. Tutkielmassa edetään plasman määritelmästä ja karakterisoinnista sen käyttöön puhdistusmenetelmänä. Tarkastelussa esitellään plasman keskeiset vaikutusmekanismit ja tuottomenetelmät. Lisäksi kuvataan plasmapuhdistuksen sovelluksia esimerkkien avulla ja arvioidaan menetelmän etuja sekä rajoitteita.